Архитектура Аудит Военная наука Иностранные языки Медицина Металлургия Метрология Образование Политология Производство Психология Стандартизация Технологии |
Материальный баланс кристаллизации
Материальный баланс кристаллизации по общим потокам может быть представлен в виде , (8.26) где – расходы соотвественно исходного, маточного растворов и полученных кристаллов, кг/с; – расход выпаренной воды, кг/с. Материальный баланс по абсолютно сухому веществу , (8.27) где а – отношение молекулярных масс безводной соли и кристаллогидрата; а = 1, если процесс проходит без присоединения воды. Из материального баланса можно определить массу удаляемого растворителя: ; (8.28) массу кристаллической фазы: ; (8.29) массу кристаллической фазы без отгонки растворителя: . (8.30)
Тепловой баланс кристаллизации
Целью расчета теплового баланса является определение расхода пара для отгонки растворителя. Рассмотрим кристалл-лизацию с отгонкой раство-рителя – Wi вт.п. (рисунок 8.19). В аппарат поступает исходный раствор Gн с характеристикой снtн, из которого образуется кристал-лическая фаза Gкр, и в результате процесса остается маточный раствор Gк. Для отгонки растворителя пода-ется пар – Dг.п.. При протека-нии процесса кристаллиза-ции внутри аппарата выде-ляется некоторое количество теплоты - Gкрqкр. Тепловой баланс про-цесса кристаллизации: . (8.31) Кинетика процесса
Как уже говорилось выше, процесс кристаллизации протекает в две стадии: образование центров кристаллов и рост кристаллов. Кристаллизация идет с достаточной скоростью лишь в пересыщенных растворах. В подобных растворах на начальном этапе образуются «зародыши» кристаллов. Начало и скорость образования кристаллов зависит от степени пересыщения, природы растворенного вещества и растворителя, наличия нерастворимой твердой фазы, наличия электрического поля. Причина появления «зародышей» – флуктуация концентраций, в результате которой образуются «дозародыши» кристаллов, представ-ляющие собой скопления молекул или ионов растворенного вещества. При достижении некоторого критического размера «дозародышей» образуются зародыши кристаллов. Начиная с некоторого критического размера rкр в пределах от 0,5 до 5нм, начинается быстрый рост зародышей и образование большого числа полидисперсных кристаллов. Чем меньше критический размер кристалла, тем больше должна быть степень пересыщения раствора. Эта закономерность выражается следующим образом: (8.32) где с – действительная концентрация раствора на момент начала кристаллизации, кг/м3; с* – равновесная концентрация (равновесная растворимость), кг/м3; σ – поверхностное натяжение, Н/м; М – молекулярная масса кристаллов; ρт – плотность кристаллов, кг/м3. Отношение называется степенью пересыщения. На стадии роста кристаллов происходит образование крупных кристаллов за счет массообмена с жидкой фазой. Скорость обеих стадий можно повысить, увеличивая степень пересыщения, увеличивая температуру, используя интенсивное перемешивание, добавляя нерастворимые твердые частицы. Рост самого кристалла протекает в две стадии: 1) диффузионная – подвод растворенного вещества к поверхности зародыша. Скорость этой стадии определяется по уравнению , (8.33) где G – масса кристаллической фазы, кг; βс – коэффициент массоотдачи в жидкой фазе; с – концентрация вещества в объеме раствора, кг/м3; сп – концентрация вещества у поверхности кристалла, кг/м3; 2) рост кристалла. Скорость этой стадии определяется: , (8.34) где βт – коэффициент массоотдачи в твердой фазе; с* – концентрация насыщения, кг/м3. Если скорость одной из стадий будет велика, следовательно, вторая стадия будет лимитировать процесс. В случае соизмеримых скоростей процессов в сплошной и дисперсной фазах общая скорость процесса определится по уравнению массопередачи: , (8.35) где – коэффициент массопередачи при кристаллизации. Конструкции аппаратов
Аппараты, в которых осуществляют процесс кристаллизации, называются кристаллизаторы. По условию образования и роста кристаллов кристаллизаторы классифицируются на поверхностные, в которых образование кристаллов происходит на охлаждаемой поверхности, и объемные, в которых образование и рост кристаллов происходят во всем объеме аппарата. Существуют также аппараты смешанного типа, в которых образование и рост кристаллов происходят на охлаждаемой поверхности и в объеме аппарата; они бывают прямоточные, емкостные и циркуляционные. По типу создания условий пересыщения кристаллизаторы можно подразделить на три группы: изогидрические, вакуумные и испарительные. На рисунке 8.20 представлена схема устройства изогидрического поверхностного вальцового кристаллизатора, который используется для кристаллизации солей с существенно снижающейся раствори-мостью при понижении температуры. Вальцовые кристаллизаторы применяются для кристаллизации из расплавов или из растворов с небольшим содержанием маточного раствора. Недостаток: мелкокристалличность получаемого продукта, присутствие примесей в готовом продукте. Негативным фактором при кристаллизации является отложение накипи и кристаллов на стенках аппарата – инкрустация. Чтобы снизить ее, нужно перемешивать раствор и полировать стенки аппарата. Из объемных кристаллизаторов наибольшее распространение получил аппарат с рубашкой и мешалкой. На рисунке 8.21 изображен изогидрический кристаллизатор периодического действия. Раствор в нем охлаждается при постоянном количестве растворителя до температуры, ниже температуры насыщения. В результате охлаждения раствор становится пересыщенным, что приводит к возникновению процесса кристаллизации.
Адсорбция Адсорбция – процесс поглощения вещества из смеси газовых паров или растворов поверхностью или объемом пор твердого тела – адсорбента. Поглощаемое вещество, находящееся в газе (жидкости), называется адсорбтивом, а поглощаемое вещество – адсорбатом. Адсорбция применяется с целью очистки и осушки газов, очистки и осветления растворов, разделения парогазовых смесей, а также извлечения ценных летучих растворителей из смеси.
|
Последнее изменение этой страницы: 2019-04-10; Просмотров: 483; Нарушение авторского права страницы